ASML verhoogt EUV-vermogen naar 1.000 watt en kan 50% meer chips produceren tegen 2030

De Nederlandse chipmachinemaker ASML heeft een belangrijke technologische doorbraak gepresenteerd in zijn extreme ultraviolet (EUV) lithografiemachines. Onderzoekers van het bedrijf zijn erin geslaagd het vermogen van de EUV-lichtbron te verhogen van 600 watt naar 1.000 watt. Dat moet chipfabrikanten in staat stellen om tegen 2030 tot 50 procent meer chips per machine te produceren. Dat meldt Reuters.

De aankondiging onderstreept de strategische positie van ASML als enige commerciële leverancier van EUV-systemen wereldwijd. Die machines zijn essentieel voor de productie van geavanceerde chips door bedrijven als Taiwan Semiconductor Manufacturing Co en Intel.

EUV-machines werken met licht met een golflengte van 13,5 nanometer. Daarmee worden chipstructuren op siliciumwafers geprint, vergelijkbaar met een fotografisch proces. Hoe krachtiger de lichtbron, hoe korter de belichtingstijd per wafer, en dus hoe meer wafers per uur verwerkt kunnen worden.

Volgens ASML kan het aantal verwerkte wafers stijgen van circa 220 per uur nu naar ongeveer 330 per uur tegen het einde van dit decennium. Afhankelijk van het type chip kunnen op één wafer tientallen tot duizenden chips worden geproduceerd. Hogere doorvoer vertaalt zich direct in lagere productiekosten per chip.

De technologische sprong naar 1.000 watt is het resultaat van verfijningen in een van de meest complexe industriële processen ter wereld. In de EUV-machine worden ongeveer 100.000 microscopische tin-druppels per seconde door een vacuümkamer geschoten. Een krachtige CO₂-laser verhit deze druppels tot plasma – een toestand waarin ze heter worden dan het oppervlak van de zon – waardoor EUV-licht vrijkomt.

De recente verbetering bestaat uit twee belangrijke aanpassingen: het verdubbelen van het aantal tin-druppels en het gebruik van twee kleinere laserpulsen om het plasma nauwkeuriger te vormen, in plaats van één vormingspuls zoals in huidige systemen. Het gegenereerde licht wordt vervolgens via uiterst precieze optica – geleverd door onder meer Carl Zeiss AG – naar de wafer geleid.

De doorbraak komt op een moment van toenemende geopolitieke spanning rond chiptechnologie. EUV-machines worden beschouwd als strategisch cruciale infrastructuur. Zowel de Verenigde Staten als Nederland hebben exportbeperkingen ingesteld om te voorkomen dat deze systemen naar China zijn te verschepen.

Tegelijkertijd proberen Amerikaanse startups zoals xLight alternatieven te ontwikkelen, met steun van de Amerikaanse overheid. Ook China investeert zwaar in een eigen EUV-ecosysteem. Met de stap naar 1.000 watt wil ASML zijn technologische voorsprong verder uitbouwen.

Volgens ASML is 1.000 watt geen eindpunt. Het bedrijf ziet een realistisch pad richting 1.500 watt en mogelijk zelfs 2.000 watt op langere termijn. Daarmee zou de productiviteit van EUV-machines opnieuw fors kunnen stijgen, wat cruciaal is nu de vraag naar AI-chips, high-performance computing en geavanceerde smartphoneprocessoren blijft toenemen.

De innovatie bevestigt dat de concurrentiestrijd in de halfgeleiderindustrie niet alleen draait om chipontwerp, maar vooral om productiecapaciteit en technologische suprematie in de lithografie. Voor ASML betekent de stap naar 1.000 watt een versteviging van zijn unieke positie in het mondiale chip-ecosysteem.